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LED行業(yè)中用哪些特種氣體
2016-2-25 17:25:54
特種氣體是光電子、微電子等領(lǐng)域，特別是在超大的規(guī)模集成電路、液晶顯示器件、非晶硅薄膜太陽能電池、半導(dǎo)體發(fā)光器件和半導(dǎo)體材料制造過程不可缺少的基硅性支撐源材料。它的純度和潔凈度直接影響到光電子、微電子元器件的質(zhì)量、集成度、特定技術(shù)指標(biāo)和成品率，并且從根本上制約著電路和器件的精確性和準(zhǔn)確性。
應(yīng)用于LED產(chǎn)業(yè)的特種氣體
半導(dǎo)體工業(yè)用氣體品種多、質(zhì)量要求高、用量少，大部分是有毒或腐蝕性氣體。品種高達(dá)百余種。半導(dǎo)體工業(yè)特種氣體應(yīng)用分類，主要包括：
1. 硅族氣體：含硅基的硅烷類，如硅烷、二氯二氫硅、乙硅烷等
2. 摻雜氣體：含硼、磷、砷等三族及五族原子之氣體，如三氯化硼、三氟化硼、磷烷、砷烷等。
3. 蝕刻清洗氣體：以含鹵化物及鹵碳化合物為主，如氯氣、三氟化氮、溴化氫、四氟化碳、六氟乙烷等
4. 反應(yīng)氣體：以碳系及氮系氧化物為主，如二氧化碳、氨、氧化亞氮等。
5. 金屬氣相沉積氣體：含鹵化金屬及有機(jī)烷類金屬，如六氟化鎢、三甲基鎵等。
在LED產(chǎn)業(yè)鏈中，外延技術(shù)、設(shè)備和材料是外延片制造技術(shù)的關(guān)鍵。當(dāng)前MOCVD工藝已成為制造絕大多數(shù)光電子材料的基本技術(shù)。外延技術(shù)需要的超純特種氣體包括高純砷烷、高純磷烷、高純氨氣，砷化鎵生產(chǎn)中應(yīng)用硅烷N型摻雜，而氯化氫和氯氣常常用做蝕刻氣，氬、氫、氮?jiǎng)t是必須的載氣。同時(shí)外延生長需要的有機(jī)源主要是三甲基鎵，三甲基銦，三甲基鋁，二乙基鋅，二甲基鋅，二茂鎂等。現(xiàn)有技術(shù)的發(fā)展對(duì)這些產(chǎn)品的品質(zhì)要求也越來越高。
在半導(dǎo)體化合物生產(chǎn)過程中，除了純特種所之外，還需要部分混合氣體，主要包括SiH4/H2.SiH4/N2作為成膜源用量盡管不大，但是對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量要求極高，配制混合氣體的露點(diǎn)達(dá)到-95℃以下，只有這樣才可以保證外延片生長的成品率。
化合物半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的擴(kuò)展，帶動(dòng)原材料市場的迅速提升，包括晶圓、襯底、蝕刻劑、過程氣體、有機(jī)金屬化合物、測試和包裝材料等的需求每年以大約21%的比例遞增，而過程氣體（砷烷、磷烷、氨氣、氬、氫、氮、氯化氫、氯氣等）占整體原料的消耗8%
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